Die Industriegespräche der DPG bieten Gelegenheit, Kontakte zu knüpfen und fördern den Austausch zwischen Physikerinnen und Physikern aus Industrie und Forschung
Die Photo-Lithographie ist einer der wichtigsten Schlüsselprozesse bei der Herstellung von Mikrochips. Mittels Lithographie-Optiken belichten Chiphersteller weltweit ihre Wafer mit Nanometer-Präzision - die Basis für die Fertigung von extrem leistungsfähigen Mikrochips. Lithographie-Optiken leisten einen entscheidenden Beitrag: Das Auflösungsvermögen der Projektionsoptik sowie die Fähigkeiten des Beleuchtungssystems beeinflussen entscheidend, wie klein die Strukturen auf einem Microchip sein können. Die Entwicklung der integrierten Schaltkreise („ICs“) folgt seit fast 6 Jahrzehnten „Moore’s Law“, das vorhersagt, daß sich die Transistordichte alle 2 Jahre verdoppelt, realisiert primär durch die Steigerung der Auflösung der Lithographie-Optik. Inzwischen hat die IC-Technologie den sogenannten „4nm-Knoten“ in Großserienproduktion und der „3nm-Knoten“ steht vor der Tür.
Der Vortrag beleuchtet die Geschichte der optischen Lithographie von der g-Linie (436nm) bis zur EUV-Lithographie (13.5nm). Dabei wird gezeigt, wie mit unterschiedlichen Mitteln das durchgehende Ziel der gesteigerten Auflösung realisiert wurde.
Das Funktionsprinzip eines EUV-Lithographie-Systems („Scanner“) mit der EUV-Optik als zentralem Element wird gezeigt. Ausführlich eingegangen wird auf den Aufbau und die extremen physikalisch-technischen Herausforderungen sowie die erzielten Leistungen der aktuellen EUV-Optik.
Zur Fortsetzung von Moore’s Law und zur weiteren Steigerung der Auflösung ist derzeit die nächste Generation der EUV-Lithographie, genannt „High NA EUV“, in Vorbereitung. Sie stellt weitere, noch extremere Herausforderungen und erfordert eine völlig neue Fertigungsinfrastruktur. Dies wird hier umfassend vorgestellt.
Im Anschluss an den Vortrag haben Sie Gelegenheit, bei einem kleinen Imbiss und Getränken miteinander und dem Referenten ins Gespräch zu kommen und sich zu vernetzen.
Die Teilnahme ist kostenfrei, zur besseren Planung bitten wir um verbindliche Anmeldung unter folgendem Link: https://www.dpg-physik.de/veranstaltungen/2023/euv-lithographie